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上海昭沅仪器设备有限公司
TEM用纯硅薄膜窗

TEM用纯硅薄膜窗

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产品名称: TEM用纯硅薄膜窗

英文名称: pure silicon support films for TEM

产品编号: 003

产品价格: 0

产品产地: 美国

品牌商标: risun

更新时间: null

使用范围: null

上海昭沅仪器设备有限公司
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 TEM用纯Si薄膜窗口

 

纯硅薄膜窗特点 

纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰;
清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
均匀性:减少了不同区域的不均匀性;
稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous);
减少污染:彩色污染仅为C膜的一半;
纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰;
Si成分:溅镀沉积、纯的Si;
最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析;
 
纯硅薄膜窗规格
单窗口系列

 

窗口类型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
5nm
25x25µm
Φ3mm
100µm
30nm
500x500µm
纳米孔10-60nm
Φ3mm
100µm

 

多窗口系列 
 

窗口类型

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

框架厚度

5nm

2x1阵列,50X1500µm

Φ3mm

100µm

9nm

/15nm

2x1阵列,100X1500µm

Φ3mm

100µm

5nm

2x1阵列,100X100µm

Φ3mm

200µm

9nm

/15nm

2x1阵列,100X1500µm

Φ3mm

200µm

5nm

3x3阵列,8个窗口50X50µm1个窗口50X100µm

Φ3mm

100µm

5nm

/9nm

3x3阵列,8个窗口100X100µm1个窗口100X350µm

Φ3mm

100µm

9nm

3x3阵列,8个窗口100X100µm1个窗口100X350µm

Φ3mm

200µm

15nm

3x3阵列,8个窗口100X100µm1个窗口100X350µm

Φ3mm

100µm

30nm

3x3阵列,8个窗口100X100µm1个窗口100X350µm;纳米孔10-60nm

Φ3mm

100µm

15nm

3x3阵列,窗口100X100µm

Φ3mm

200µm